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[发明专利]二氧化硅粒子-CN201880021559.9有效
发明人：西村仁希;小野勇二;芝崎将一 -专利权人：株式会社日本触媒
申请日： 2018-04-05 - 公布日： 2022-11-29 - 主分类号： C01B33/18 文献下载
摘要：本发明的课题在于提供可提供均匀性良好的二氧化硅粒子分散体的二氧化硅粒子。本发明的二氧化硅粒子，其为根据BET法由比表面积算出的平均一次粒径dBET为1nm以上100nm以下，并且，根据动态光散射法测定的平均二次粒径d与所述dBET之比(dDLS/dBET)为1.2以下的二氧化硅粒子本发明的二氧化硅粒子用放大倍率20万倍的透射型电子显微镜测定的粒径的变异系数优选为20％以下。
二氧化硅粒子

[发明专利]二氧化硅粒子-CN202210279809.7在审
发明人：銭谷优香;竹内栄;佐佐木孝治;恵利祥史;持田麻衣 -专利权人：富士胶片商业创新有限公司
申请日： 2022-03-21 - 公布日： 2022-09-30 - 主分类号： C01B33/18 文献下载
摘要：一种二氧化硅粒子，其含有包含钼元素的含氮元素化合物，且通过荧光X射线分析测定的钼元素的Net强度与硅元素的Net强度的比率Mo/Si为0.035以上且0.35以下。
二氧化硅粒子

[发明专利]二氧化硅粒子-CN96180001.1无效
发明人： I·M·马金诺恩;D·M·布彻尔 -专利权人：罗地亚有限公司
申请日： 1996-12-23 - 公布日： 1999-02-24 - 主分类号： C08K3/36 文献下载
摘要：一种用聚合油冻胶处理过的细粒二氧化硅。
二氧化硅粒子

[发明专利]核壳结构二氧化硅@介孔二氧化硅支持金纳米粒子微珠及其制备方法-CN201310179775.5有效
发明人：孙立国;吕莉丽;赵冬梅;张艳红;汪成 -专利权人：黑龙江大学
申请日： 2013-05-15 - 公布日： 2013-08-14 - 主分类号： B01J13/02 文献下载
摘要：核壳结构二氧化硅@介孔二氧化硅支持金纳米粒子微珠及其制备方法，它涉及一种金纳米粒子微珠及其制备方法。本发明为了解决现有的金属纳米结构拉曼光谱质量差的技术问题。核壳结构二氧化硅@介孔二氧化硅支持金纳米粒子微珠由核层和壳层组成，方法如下：制备二氧化硅纳米小粒子；制备二氧化硅纳米种子；制备核壳结构的二氧化硅@介孔二氧化硅纳米粒子溶胶液；制备二氧化硅@介孔二氧化硅纳米粒子；制备壳层带有氨基基团的二氧化硅@介孔二氧化硅纳米粒子；制备核壳结构的二氧化硅@介孔二氧化硅支持金纳米粒子；制备核壳结构二氧化硅@介孔二氧化硅支持金纳米粒子微珠。
结构二氧化硅支持纳米粒子及其制备方法

[发明专利]核壳二氧化硅粒子及用于减少恶臭的用途-CN201480068570.2在审
发明人：潘桂生;苏曼·乔普拉 -专利权人：高露洁-棕榄公司
申请日： 2014-12-18 - 公布日： 2016-08-03 - 主分类号： C23C18/12 文献下载
摘要：本发明涉及核壳二氧化硅粒子，其中每个核壳二氧化硅粒子包含二氧化硅核，并且所述二氧化硅核的表面被金属硅酸盐蚀刻，所述核壳二氧化硅粒子是通过以下步骤制备：i)将一定量在水中的二氧化硅粒子与一定量的碱混合以产生核壳二氧化硅粒子，其中所述碱包含一价金属离子，每个核壳二氧化硅粒子包含二氧化硅核，并且所述二氧化硅核的表面被一价金属离子的硅酸盐蚀刻；及ii)使在步骤i)中形成的核壳二氧化硅粒子与包含第二金属离子的金属盐反应以形成在二氧化硅核表面上包含第二金属离子硅酸盐的核壳二氧化硅粒子
二氧化硅粒子用于减少恶臭用途

[发明专利]核壳二氧化硅粒子及其作为抗细菌剂的用途-CN201480073669.1有效
发明人：潘桂生;苏曼·乔普拉 -专利权人：高露洁-棕榄公司
申请日： 2014-12-18 - 公布日： 2019-06-14 - 主分类号： C23C18/12 文献下载
摘要：本发明提供核壳二氧化硅粒子，其中每个核壳二氧化硅粒子包含二氧化硅核，并且所述二氧化硅核的表面用I族金属硅酸盐蚀刻。这些核壳二氧化硅粒子具有高表面电荷密度和抗细菌活性。还提供包含核壳二氧化硅粒子的组合物、制造所述核壳二氧化硅粒子的方法以及通过施用所述核壳二氧化硅粒子或其组合物降低或抑制细菌活性的方法。
二氧化硅粒子及其作为细菌用途

[发明专利]中空二氧化硅粒子及其制造方法-CN201780019297.8有效
发明人：星田浩树 -专利权人：花王株式会社
申请日： 2017-04-19 - 公布日： 2020-07-31 - 主分类号： C01B33/18 文献下载
摘要：本发明提供一种可简便地获得碱金属含量被降低了的中空二氧化硅粒子的中空二氧化硅粒子的制造方法。本发明涉及一种中空二氧化硅粒子的制造方法，其包括下述工序(1)及(2)。(1)将于有机碱水溶液中溶解了二氧化硅的二氧化硅溶解液进行喷雾干燥，获得中空二氧化硅前体的工序。(2)将上述中空二氧化硅前体进行烧成，获得中空二氧化硅粒子的工序。
中空二氧化硅粒子及其制造方法

[发明专利]介孔二氧化硅微粒、介孔二氧化硅微粒的制造方法、含有介孔二氧化硅微粒的组合物、含有介孔二氧化硅微粒的成形物和有机电致发光元件-CN201380001968.X无效
发明人：福冈步;山名正人 -专利权人：松下电器产业株式会社
申请日： 2013-07-08 - 公布日： 2014-05-07 - 主分类号： C01B37/00 文献下载
摘要：本发明的介孔二氧化硅微粒，具备具有第一介孔的粒子内部、和被覆上述粒子内部的粒子外周部。上述粒子外周部，含有包含有机二氧化硅的有机二氧化硅被覆部。上述有机二氧化硅，包含二氧化硅骨架内的两个Si之间被有机基团交联的交联型有机二氧化硅。
二氧化硅微粒制造方法含有组合成形有机电致发光元件

[发明专利]调色剂、显影剂和图像形成装置-CN201410043741.8有效
发明人：小岛智之;粟村顺一;长友庸泰;阪下真悟;村山智纪;福田将也 -专利权人：株式会社理光
申请日： 2014-01-29 - 公布日： 2017-04-12 - 主分类号： G03G9/08 文献下载
摘要：所述调色剂包含包含第一二氧化硅粒子和第二二氧化硅粒子的二氧化硅粒子，其中所述调色剂为通过在母粒子的表面上沉积所述二氧化硅粒子制造的调色剂，所述第一二氧化硅粒子具有75nm‑250nm的平均初级粒径，所述第二二氧化硅粒子具有10nm‑50nm的平均初级粒径，所述第一二氧化硅粒子对所述母粒子的质量比为0.010‑0.040，所述第二二氧化硅粒子对母粒子的质量比为0.005‑0.030，通过超声振动方法，二氧化硅粒子从调色剂的游离率为5质量%‑20质量%，和在通过超声振动方法从调色剂游离的二氧化硅粒子中具有30nm或更小的初级粒径的粒子的量为20数量%或更少。
调色显影剂图像形成装置

[发明专利]鳞片状二氧化硅粒子的制造方法-CN201310545755.5在审
发明人：佐佐木隆好;野村育代;有光慎之介;宫原浩嘉 -专利权人：旭硝子硅素技术株式会社
申请日： 2013-11-06 - 公布日： 2014-05-21 - 主分类号： C01B33/18 文献下载
摘要：本发明在防止无定形粒子的产生的情况下制造鳞片状二氧化硅粒子。鳞片状二氧化硅粒子的制造方法，该方法包括在pH2以下的条件下对含鳞片状二氧化硅粒子凝集而得的二氧化硅凝集体的二氧化硅粉体进行酸处理的工序、在pH8以上的条件下对进行了酸处理的二氧化硅粉体进行碱处理而对二氧化硅凝集体进行胶溶的工序、以及对进行了碱处理的二氧化硅粉体进行湿式破碎而获得鳞片状二氧化硅粒子的工序。
鳞片状二氧化硅粒子制造方法

[发明专利]一种高分散二氧化硅的制备方法-CN202010035134.2有效
发明人：曾土儿;张起森 -专利权人：福建省三明正元化工有限公司
申请日： 2020-01-14 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： C01B33/193 文献下载
摘要：本发明公开了二氧化硅制备方法技术领域的一种高分散二氧化硅的制备方法，用规定的水玻璃和浓硫酸作为原材料，通过底液中完全不加水玻璃，使水玻璃和稀硫酸在完全水溶液和一定条件下直接化学合成，且通过控制体系pH的梯度增加来不断调整二氧化硅粒子的粒径分布，然后在加硫酸酸化过程中引入电解质（硫酸钠溶液），电解质能有效阻止生成的二氧化硅粒子紧密团聚，最后对压滤后的二氧化硅以正丁醇作为分散剂进行共沸干燥，再次阻止二氧化硅粒子间的相互接触和凝聚，调整二氧化硅粒径的分布，本发明提供了一种高分散二氧化硅的制备方法，沉淀得到的二氧化硅原始粒子粒径分布均匀，最终形成的二氧化硅粒子更易分散到橡胶中，电解质能有效阻二氧化硅粒子紧密团聚，二氧化硅粒子分散更加均匀。
一种分散二氧化硅制备方法

[发明专利]硅油处理二氧化硅粒子以及电子照相用调色剂-CN201680005113.8有效
发明人：山野友也;中村正博;小松原胆治 -专利权人：株式会社德山
申请日： 2016-01-21 - 公布日： 2021-10-22 - 主分类号： C01B33/18 文献下载
摘要：本发明的硅油处理二氧化硅粒子是一种具备二氧化硅粒子本体和硅油的硅油处理二氧化硅粒子，二氧化硅粒子本体的BET比表面积为70m2/g以上120m2/g以下，二氧化硅粒子本体由硅油进行了表面处理，硅油中，从二氧化硅粒子本体的表面游离出来的游离硅油的量相对于二氧化硅粒子本体为2.0质量以上％5.0质量％以下，对粒径中值为5μm以上8μm以下的苯乙烯‑丙烯酸树脂粒子100质量份混合了硅油处理二氧化硅粒子2质量份而得到的表面处理苯乙烯‑丙烯酸树脂粒子的聚集度为18％以下。
硅油处理二氧化硅粒子以及电子照相调色

[发明专利]中孔二氧化硅粒子、用于制备中孔二氧化硅粒子的方法和含有中孔二氧化硅粒子的模制制品-CN201180063022.7有效
发明人：福冈步;矢部裕城;大久保达也;下岛敦;石井大贵 -专利权人：松下电器产业株式会社;国立大学法人东京大学
申请日： 2011-12-22 - 公布日： 2013-09-11 - 主分类号： C01B37/00 文献下载
摘要：本发明的目的是提供具有功能如低折射率(低n)、低介电常数(低k)和低热导率且也可以赋予模制制品更高的强度的中孔二氧化硅粒子。该中孔二氧化硅粒子各自包含核粒子，所示核粒子包含第一中孔，其中所述核粒子的外周被二氧化硅覆盖。优选地，在通过二氧化硅覆盖形成的所述二氧化硅覆盖的部分中设置小于所述第一中孔的第二中孔。所述的中孔二氧化硅粒子通过以下方式制备：将表面活性剂、水、碱、含有疏水性部分的添加剂和二氧化硅源混合从而制备表面活性剂复合二氧化硅粒子的表面活性剂复合二氧化硅粒子制备步骤，所述含有疏水性部分的添加剂包括用于增加要通过所述表面活性剂形成的胶束的体积的疏水性部分；和将所述二氧化硅源加入至所述表面活性剂复合二氧化硅粒子从而用二氧化硅覆盖每个核粒子的外周的二氧化硅覆盖步骤。
二氧化硅粒子用于制备方法含有制品

[发明专利]包含二氧化铈和胶态二氧化硅的分散液-CN200780051594.7无效
发明人： M·克勒尔;S·黑贝雷尔;K·道特 -专利权人：赢创德固赛有限责任公司
申请日： 2007-11-09 - 公布日： 2009-12-23 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明公开了包含二氧化铈粒子和胶态二氧化硅粒子的分散液，其中：该二氧化硅粒子的ζ电位为负值且该二氧化铈粒子的ζ电位为正值或等于零，而该分散液的整体ζ电位为负值，该二氧化铈粒子的平均粒径不大于200纳米，该二氧化硅粒子的平均粒径不大于100纳米，且该二氧化铈粒子的平均粒径大于该二氧化硅粒子的平均粒径，二氧化铈/二氧化硅的重量比为1.1∶1至100∶1，和该分散液的pH为7.5至10.5。
包含氧化二氧化硅分散

[发明专利]一种涂料及其制备方法-CN201010254122.5有效
发明人：纪志勇;张丽娟;李昊;耿雷;陶月明;徐瑞芬 -专利权人：江苏考普乐新材料股份有限公司
申请日： 2010-08-16 - 公布日： 2012-01-04 - 主分类号： C09D127/12 文献下载
摘要：本发明涉及一种涂料，其包含以下组分：A)表面改性的二氧化钛和二氧化硅的核壳型纳米复合粒子；和B)成膜组分；其中表面改性的二氧化钛和二氧化硅的核壳型纳米复合粒子与成膜组分的重量比为1∶9-99；其中表面改性的二氧化钛和二氧化硅的核壳型纳米复合粒子由作为基体的二氧化钛和二氧化硅的核壳型纳米复合粒子和包覆在其表面上的分散剂组成，其中分散剂的含量基于二氧化钛和二氧化硅的核壳型纳米复合粒子的重量为0.1-1.5重量％；其中二氧化钛和二氧化硅的核壳型纳米复合粒子由作为核的二氧化钛纳米粒子和作为壳的二氧化硅组成，其中二氧化钛与二氧化硅的摩尔比为1∶1-8，二氧化钛和二氧化硅的核壳型纳米复合粒子的粒径为10-60nm。
一种涂料及其制备方法

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